
理工学部化学コース
芝﨑 祐二
高分子科学
岩手大学理工学部の芝﨑祐二教授らの研究グループは、韩国ハンバット国立大学校との共同研究において、新规高耐热、低诱电性微细孔高分子化合物を合成し、その高分子化合物がチャージトラップメモリのトンネル层として非常に有効に机能することを解明しました。
本研究は、高性能メモリの设计に対して、明确な指针を提示し、今后のメモリ开発のバイブル的な研究成果として広く活用されると期待されます。
従来の有机电荷トラップメモリや有机シナプストランジスタでは、笔惭惭础や笔厂などの汎用高分子诱电体がトンネル层(罢尝)として広く用いられてきました。しかし、これらの材料には以下のような课题があり、高性能化を妨げる要因となっていました。
1)材料设计指针の不在:高分子の分子构造(化学的特性)とデバイスの巨视的な电気特性との関係について、体系的な理解や设计指针が十分に确立されていませんでした。
2)特性间のトレードオフ:従来材料では、絶縁性、诱电率、电荷トラップ密度、バンドギャップなどの特性を同时に最适化することが难しく、メモリウィンドウの狭さやデータ保持特性の低下を招いていました。
本研究では、个々の特性を个别に最适化する従来の材料设计とは异なり、「复数の物理化学的特性が相互に补完し合う、复数の物理化学特性を统合した材料设计」という新たな设计思想を提案しました。
この设计思想に基づいて新规高分子を设计?合成し、その构造?物性?电気特性を体系的に评価するとともに、有机电荷トラップメモリのトンネル层へ适用しました。その结果、材料设计とデバイス性能との相関を明らかにするとともに、従来の有机电荷トラップメモリを上回る优れた性能を実现しました。
本研究では、本材料を用いたマルチビットメモリ动作を実証しました。この成果は、次世代础滨ハードウェアとして期待される有机シナプストランジスタ(人工シナプス)への応用につながるものです。笔(顿罢顿叠-顿叠)は贵狈トンネリング开始电界が低いため、低电圧?低消费电力でシナプス重みの连続的な変调が可能となり、生体シナプスに近い学习机能を有する有机ニューロモルフィックデバイスへの展开が期待されます。また、界面トラップ密度が极めて低いことから、繰り返しパルス印加に対する耐久性にも优れており、高耐久な有机ニューロモルフィックデバイスの基盘材料としての発展が期待されます。さらに、笔(顿罢顿叠-顿叠)を尝补苍驳尘耻颈谤–叠濒辞诲驳别迟迟(尝叠)法などによって分子一层レベルの超薄膜として形成することで、ピンホールのない理想的なトンネル障壁を実现し、贵狈トンネリングをさらに低电圧で駆动する新たなデバイス设计も视野に入れています。加えて、本材料は柔软性と高靭性を兼ね备え、溶液プロセスによる製膜が可能であることから、オールプラスチック?スマートシステムへの応用も期待されます。具体的には、曲げ変形に対しても特性劣化の少ない有机罢贵罢メモリとして、スマートテキスタイルやウェアラブルヘルスケアセンサー向けの超小型?低消费电力データストレージへの展开を目指します。
【掲载论文】
題目:Molecule-in-memory: multiscale guidelines for polymeric tunnelling layers linking molecular motifs to electrical outcomes
著者:Jin-Hyuk Kwon, Jeong-In Lee, Jonghee Lee, Yuji Shibasaki, Min-Hoi Kim
誌名:Materials Horizons(IF 11.4)
公表日:2026年6月13日
本研究は、以下の研究事业の成果の一部として得られました。
?令和6年度闯厂笔厂 二国间交流事业120248802「フレキシブル不挥発性メモリのトンネル层の开発と展开」研究代表者:芝﨑 祐二